近期，有關英特爾在2025年Intel Foundry Direct Connect大會上對Intel 14A節(jié)點的技術路徑保持沉默的消息引起了業(yè)界關注。盡管大會未明確透露是否會在該節(jié)點引入High NA EUV光刻技術，但代工業(yè)務負責人納加·錢德拉塞卡蘭對此話題給出了見解。
據(jù)錢德拉塞卡蘭透露，英特爾在14A制程的EUV光刻步驟中擁有靈活的選擇：可以繼續(xù)采用傳統(tǒng)的Low NA技術，或是部分引入High NA技術。值得注意的是，這兩種方案在設計規(guī)則層面保持兼容，這意味著無論英特爾最終選擇哪條技術路線，都不會對客戶產(chǎn)生任何不利影響。
英特爾在俄勒岡州的研發(fā)晶圓廠已經(jīng)成功安裝了第二套由ASML提供的High NA EUV光刻系統(tǒng)，并且該系統(tǒng)的表現(xiàn)達到了預期。這一進展標志著英特爾在High NA EUV圖案化技術開發(fā)方面正穩(wěn)步邁向量產(chǎn)階段。同時，英特爾已經(jīng)掌握了High NA EUV在18A和14A節(jié)點上的相關數(shù)據(jù)，為未來的生產(chǎn)奠定了堅實基礎。
