在電子束檢測技術的廣闊天地里，東方晶源以其不懈的努力與卓越的創(chuàng)新力，成為了國產(chǎn)替代浪潮中的一顆璀璨明星。多年來，該企業(yè)深耕細作，不僅成功打破了電子束缺陷檢測設備EBI與關鍵尺寸量測設備CD-SEM領域的國外壟斷，更贏得了市場的廣泛認可與贊譽。

時間的指針撥回到2023年初，東方晶源攜DR-SEM r600驚艷亮相，這款搭載了3通道電子成像技術與新型設備平臺的力作，在客戶端順利完成量產(chǎn)驗證，為后續(xù)產(chǎn)品的迭代升級奠定了堅實的基礎。經(jīng)過兩年的潛心研發(fā)，如今，東方晶源再次以全新姿態(tài)站在行業(yè)前沿，推出了最新一代的DR-SEM r655。

r655不僅在硬件上實現(xiàn)了質的飛躍，更在技術上取得了重大突破。全新的高性能電子槍與光學檢測模組，搭配升級版?zhèn)髌到y(tǒng)和算法系統(tǒng)，使得r655在檢測精度與效率上均達到了國際先進水平。特別是其5通道探測器設計，覆蓋了更廣泛的檢測需求，全方位缺陷表征能力顯著提升，為工程師提供了更為精準、立體的缺陷判定依據(jù)。

在材料襯度解析方面，r655同樣表現(xiàn)不俗。頂端探測器增強了背散射電子信號的接收能力，能夠精準捕捉材料襯度差異，滿足先進制程對多種應用場景的苛刻要求。同時，配合高加速電場設計，r655在高深寬比結構的檢測上同樣游刃有余，性能與國際成熟機型不相上下。

光學檢測的升級更是r655的一大亮點。針對無圖形晶圓缺陷復檢需求，r655通過光路優(yōu)化與深紫外光源系統(tǒng)的兩項核心改進，實現(xiàn)了光學檢測靈敏度的極限突破。調(diào)整后的缺陷接收光路大大縮小了與目標缺陷尺寸的檢測差距，而自研光路和定制開發(fā)的國產(chǎn)深紫外激光源則使得光學檢測靈敏度提升至20nm，為未來的性能進一步優(yōu)化預留了充足空間。

在效能方面，r655同樣不負眾望。通過平臺級升級，r655全面優(yōu)化了晶圓吞吐效率。傳輸與運動控制的優(yōu)化大大縮短了晶圓傳輸時間，配合新一代電子光學系統(tǒng)，缺陷抓取速度接近國際一線設備水平。同時，模塊化擴展設計使得r655具備靈活的可拓展性，能夠支持多個選配模組和升級需求，完美兼容先進制程的多樣化檢測需求，確保了設備的長期技術競爭力。

東方晶源始終秉持著“高性能優(yōu)化（HPO）”的核心理念，前瞻性地整合了DR-SEM與GDS-Design系統(tǒng)，通過智能算法的應用，進一步提升了缺陷抓取率，推動了檢測流程的自動化進程。這一系列舉措不僅彰顯了東方晶源在自主創(chuàng)新方面的堅定決心與強大實力，更為我國半導體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控提供了堅實有力的支撐。