在荷蘭阿姆斯特丹，臺積電的一位高層近日于公司2025年技術論壇歐洲場活動中發(fā)表了一項引人關注的觀點。資深副總經理兼副聯(lián)席首席運營官張曉強指出，對于當前最尖端的制程技術，引入High NA EUV（極紫外光刻）技術并非當務之急。
張曉強詳細闡述了臺積電最新的1.4nm級別邏輯制程A14。他強調，即便沒有采用High NA EUV圖案化設備，A14制程的性能提升依然顯著。他進一步透露，臺積電的技術團隊正不斷努力，通過工藝優(yōu)化來拓寬Low NA EUV技術的應用范圍。只要這一技術路徑能夠持續(xù)取得進展，臺積電認為在量產中引入成本高昂的ASML High NA EUV設備便顯得沒有必要。
張曉強還提及了業(yè)界對High NA EUV技術的整體態(tài)度。他指出，在三大先進制程廠商中，雖然有一家國際同行對High NA EUV技術表現(xiàn)出了最為積極的態(tài)度，但在實際生產中，這家廠商也表現(xiàn)出了謹慎的傾向。特別是在與臺積電A14制程相近的某個14A工藝節(jié)點上，該廠商也提供了是否使用High NA EUV技術的不同方案選擇。
這一表態(tài)不僅反映了臺積電在先進制程技術路線上的自信，也揭示了整個半導體行業(yè)在追求更高精度和更低成本之間的微妙平衡。隨著技術的不斷進步，如何在保證性能的同時，有效控制成本，成為了所有廠商必須面對的重要課題。
