Intel在近期舉辦的晶圓代工業(yè)務研討會上，公布了其工藝制程的最新藍圖及代工業(yè)務的最新進展。
自2021年Intel啟動“四年五個工藝節(jié)點”戰(zhàn)略以來，截至2024年，公司已在全球范圍內投入高達900億美元的資金。其中，技術研發(fā)領域的投資約為180億美元，而晶圓廠設施的建設與升級則耗資370億美元。
Intel的18A制程技術已邁入風險量產(chǎn)的門檻，預計今年將全面實現(xiàn)量產(chǎn)。而對于后續(xù)的14A工藝節(jié)點，Intel計劃在2027年前后啟動風險生產(chǎn)。與18A采用的PowerVia背面供電技術相比，14A將引入創(chuàng)新的PowerDirect直接觸點供電方案。
據(jù)悉，14A工藝預計將帶來15%至20%的能效提升，同時芯片的密度也將顯著提升1.3倍。目前，已有部分客戶計劃開展14A測試芯片的流片工作。
Intel還詳細披露了18A工藝的兩個衍生版本：18A-P和18A-PT。18A-P版本專注于提升性能，并已開始小批量生產(chǎn)，且與18A的設計規(guī)則保持完全兼容。而18A-PT則在18A-P的基礎上進一步優(yōu)化性能與能效，并能通過Foveros Direct 3D先進封裝技術與頂部芯片實現(xiàn)連接，其混合鍵合互連間距可縮小至5微米以下。
